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原文传递多重模式系统及方法

专利名称：	多重模式系统及方法
摘要：	一种用于检查半导体基板的检查系统，该检查系统可包括包含部分阻挡明视野单元及非阻挡明视野单元的检查单元；其中该部分阻挡明视野单元经配置来阻挡满足以下条件的任何镜面反射：(a)该镜面反射是通过沿第一轴线照射晶圆的一区域而引起，(b)该镜面反射沿第二轴线传播，(c)该第一轴线与第二轴线以该晶圆的该区域的法线为中心成对称，且(d)该法线平行于部分阻挡明视野单元的光轴；且其中该非阻挡明视野单元经配置来将满足以下条件的任何镜面反射传递至影像平面：(a)该镜面反射是通过沿该第一轴线照射该晶圆的一区域而引起，(b)该镜面反射沿该第二轴线传播，(c)该第一轴线与该第二轴线以该法线为中心成对称，且(d)该法线平行于该部分阻挡明视野单元的光轴。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	以色列;IL
申请人：	康特科技公司
发明人：	Z·本埃泽;M·雷根斯布格尔;S·科伦;T·吉拉德;S·沙皮拉
专利状态：	有效
申请号：	CN201810613803.2
公开号：	CN109444162A
代理机构：	广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205
代理人：	郑勇
分类号：	G01N21/95(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	以色列米格达勒埃梅克
主权项：	1.一种用于检查半导体基板的检查系统，其包含：检查单元，其包含部分阻挡明视野单元及非阻挡明视野单元；其中该部分阻挡明视野单元经配置来阻挡满足以下条件的任何镜面反射：(a)该镜面反射是通过沿第一轴线照射晶圆的一区域而引起，(b)该镜面反射沿第二轴线传播，(c)该第一轴线与第二轴线以该晶圆的该区域的法线为中心成对称，及(d)该法线平行于该部分阻挡明视野单元的一光轴；且其中该非阻挡明视野单元经配置来将满足以下条件的任何镜面反射传递至影像平面：(a)该镜面反射是通过沿该第一轴线照射该晶圆的一区域而引起，(b)该镜面反射沿该第二轴线传播，(c)该第一轴线与第二轴线以该法线为中心成对称，及(d)该法线平行于部分阻挡明视野单元的光轴。
所属类别：	发明专利