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原文传递一种缝隙耦合型微纳光学结构

专利名称：	一种缝隙耦合型微纳光学结构
摘要：	本发明涉及微纳光学技术领域，具体涉及一种缝隙耦合型微纳光学结构，包括一金属膜，金属膜上设有不少于一个的矩形孔，每个矩形孔内均设有一L形结构，L形结构包括第一金属条和第二金属条，第一金属条垂直连接于第二金属条一端，第一金属条与矩形孔的一条边平行L形结构由贵金属制成。利用第一金属条和第二金属条在矩形孔内形成两条间隙第一间隙和第二间隙，将手性电磁场局域到矩形孔与第一金属条和第二金属条之间的间隙，从而增强入射光和本发明缝隙耦合型微纳光学结构的耦合，使得该微纳光学结构的圆二色性得到了增强。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	中山科立特光电科技有限公司
发明人：	不公告发明人
专利状态：	有效
申请日期：	2019-06-24T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-17T00:00:00+0800
申请号：	CN201910547675.0
公开号：	CN110243764A
分类号：	G01N21/19(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	528458 广东省中山市五桂山商业街118号4楼501房
主权项：	1.一种缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，包括一金属膜，所述金属膜上设有不少于一个的矩形孔；所述每个矩形孔内均设有一L形结构；所述L形结构包括第一金属条和第二金属条；所述第一金属条垂直连接于所述第二金属条一端；所述第一金属条与所述矩形孔的一条边平行；所述L形结构由贵金属制成。 2.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述矩形孔呈矩形阵列排布于所述金属膜上。 3.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一金属条与所述矩形孔之间具有一第一间隙；所述第二金属条与所述矩形孔之间具有一第二间隙。 4.根据权利要求3所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一间隙与所述第二间隙相等。 5.根据权利要求3或4所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一间隙与所述第二间隙取值范围为10~50nm。 6.根据权利要求5所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述金属膜厚度的取值范围为20~100nm。 7.根据权利要求1所述的缝隙耦合型微纳光学结构，其特征在于，所述第一金属条与所述第二金属条长度不同。
所属类别：	发明专利