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防止微粒附着装置和等离子体处理装置
| 专利名称： | 防止微粒附着装置和等离子体处理装置 |
| 摘要： | 本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 发明人： | 守屋刚;长池宏史;林辉幸;藤原馨 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2004-10-08T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200410080756.8 |
| 公开号： | CN1606145 |
| 代理机构： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 龙淳;邸万杰 |
| 分类号： | H01L21/68 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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